真空電鍍的特點(diǎn)主要包括哪些？

1、真空鍍膜所獲得的金屬膜層很薄(一般為0.01~0.1um)，能夠嚴(yán)格復(fù)制出啤件表面的形。

2、工作電壓不是很高(200V)，操作方便，但設(shè)備較昂貴。3、蒸鍍鍋瓶容積小，電鍍件出數(shù)少，生產(chǎn)效率較低。

4、只限于比鎢絲熔點(diǎn)低的金屬(如鋁、銀、銅、金等)鍍飾。5、對(duì)鍍件表面質(zhì)量要求較高﹐通常電鍍前需打底油來(lái)彌補(bǔ)工件表面缺陷。6、真空鍍膜可以鍍多種塑料如﹕ABS、PE、PP、PVC、PA、PC、PMMA等。